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성공사례-특허사례

선형화된 활성 무선 주파수 플라즈마 이온 소스

페이지 정보

작성자 관리자 작성일 조회403회

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특허 출원일자 : 2018.11.13

특허 등록일자 : 2022.04.19

특허 등록번호 : 10-2389512-0000



플라즈마 이온 소스는 플라즈마 챔버 바디의 내부에 공급 가스를 도입하기 위한 적어도 하나의 주입구를 가지는 플라즈마 챔버 바디를 포함한다. 플라즈마 챔버 바디는 플라즈마 챔버 바디에 부착된 진공 챔버로부터 전기적으로 격리된다. 플라즈마 챔버 바디의 내부의 유도 안테나가 여기에 공급된 RF 전압의 함수로서 전자기 에너지 소스를 공급하도록 배열된다. 플라즈마 이온 소스는 플라즈마 챔버 바디의 말단에서 배치된 추출 그리드를 포함한다. 추출 그리드와 플라즈마 챔버 바디 사이의 전압 차이는 플라즈마 방전 내의 하전된 종을 가속하여 출력 준-중성 플라스마 이온 빔을 생성시킨다. 플라즈마 챔버 바디에 적용된 바이어스 전압은 펄스 DC 전압과 결부된 안테나에 공급된 RF 전압의 부분을 포함한다.

대표변리사

김순웅

정진국제특허법률사무소 상담문의 02-6677-7612