고막 치유를 위한 헤파린-결합 표피성장 인자 활성의 조절
고막 치유를 위한 헤파린-결합 표피성장 인자 활성의 조절
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특허 출원일자 : 2014.04.09
특허 등록일자 : 2021.10.22
특허 등록번호 : 10-2318748-0000
HB-EGF 활성의 조절에 의해 만성적 고막 천공을 발생 또는 치료하기 위한 조성물 및 방법이 제공된다.
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대표변리사 김순웅 |
정진국제특허법률사무소 상담문의 02-6677-7612 |
