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연속적으로 스캐닝하는 XY 병진 스테이지(CONTINUOUSLY SCANNING XY TRANSLATION STAGE)

페이지 정보

작성자 관리자 작성일 조회748회

본문



특허 출원일자 : 2011.02.15

특허 등록일자 : 2018.04.13

특허 등록번호 : 10-1850513-0000



XY 병진 스테이지는 주 구동 메커니즘 및 스테이지 구동 조립체를 포함한다. 주 구동 메커니즘은 스테이지 구동 조립체를 회전 축 둘레로 회전시킨다. 또한 XY 병진 스테이지는 정의된 평면 밖으로 물체 스테이지의 회전 없이 그 정의된 평면에서 자유롭게 궤도 운동하는 물체 스테이지를 포함한다. 스테이지 핀은 스테이지 구동 조립체의 회전 운동이 정의된 평면 내 물체 스테이지의 궤도 운동을 산출하도록 스테이지 구동 조립체를 물체 스테이지와 연관시킨다. 회전 축에 대한 스테이지 핀의 위치 결정은 조절가능하여 물체 스테이지의 궤도 운동의 직경이 조절가능하게 된다.

정진국제특허법률사무소 상담문의 02-6677-7612